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真空電鍍

蒸鍍 (Evoaporation),即為所謂的物理氣相沉積 (Physical Vapor Deposition)藉著將欲蒸鍍的材料加熱直至汽化昇華,並使此氣體附著於放置在附近的基板表面上、來進行薄膜沉積進而形成一層均勻薄膜。
 
真空電鍍(vacuum plating),在已抽至真空度10-4~10-5 torr之真空爐內,利用強大電流將鍍膜源 (鎢絲) 加熱至攝氏1100℃以上,進而將掛在鎢絲上的純鋁鋁片或鋁線熔解蒸發,此時鋁材迅速蒸發成蒸氣狀原子,並以放射狀飛散至被鍍件表面而凝結沉積,最後於被鍍件表面形成一層均勻薄膜。
 
真空電鍍鍍膜其光學特性良好,積膜速度快且薄膜均勻,電鍍面積大且任何材料(BMC .PC.ABS.PEI.鋁合金.鎂合金.鐵)皆可被鍍等優異特性,因而廣泛應用於各種反射鏡面之加工,例如車燈反射鏡,各式室內外燈具反射鏡,LED節能燈具反射鏡等等,甚至於各種材料之美化裝飾效果、各式各樣範圍廣泛皆可使用此加工法。